多弧离子反应镀膜设备可镀色彩：

1. 镀银灰色∶用钛靶材,真空镀抽至1.5 ×10-2Pa,充 Ar(氩气)至 1.0×10-1Pa左右镀三分钟左右.(产生 Ti金属层)

2. 镀银白色∶用铬靶材,真空度抽至1.0×10-2Pa,充 Ar(氩气)至1.5×10-1Pa左右镀三分钟左右.(产生 Cr金属层)

3.镀金色∶用钛靶材,真空度抽至1.5×10-2Pa,充Ar(氩气)至1×10-1Pa镀60秒 —关氩气(Ar)—开氮气至2~4×10-1Pa镀4分钟左右.(产生 TiN化合物)

4. 镀古铜色∶用一半钛靶材,一半钛铝靶材,充 Ar(氩气)至 1×10 Pa-1开钛靶镀50秒—关 Ar(氩气)开氮气至1×10-1Pa—开钛靶、钛铝靶—充乙炔150流量左右,氮气调至 3×10-1Pa左右,镀4分钟(加热炉体至 200°C左右).(产生 TiCN和 TiN 化合物)

5. 镀玫瑰金色∶跟古铜色一样操作,只是乙炔在 60 流量左右,氮气调至 2.5×10-1Pa左右(氮气、乙炔要同时加进去反应,乙炔要保持不变,真空度多少只调节氮气流量,古铜跟玫瑰金同样调节).(产生TiCN 化合物)

6.镀五彩色∶用钛靶材,充 Ar(氩气)至1.0×10-1Pa镀1分钟后,关氩气,开N氮气至2.5×10-1Pa镀70秒后关氮气,开氧气 O2至4.5 ×10-1Pa镀160秒左右,(产生 TiO2、Ti2O3等氧化物)

7.镀珠光色∶用钛靶材,充 O2(氧气)在 6.5×10-1Pa~7.5× 10-1Pa不变动,镀40秒左右即可,注意同时引弧,加热炉体至 180°C.(产生 TiO2、Ti2O3等氧化物)

8.镀18K金色∶用锆靶材,充 Ar(氩气)至1.0×10-1Pa镀30秒,关氩气,开氮气至 2~4×10-1Pa左右镀3~4分钟即可.(产生 ZrN化合物)

9.镀土豪金色∶装一半钛靶材,一半错靶材,充 Ar((氩气)1.0× 10-1Pa镀钛靶 30秒后关氩气,开氮气至 2~4×10-1Pa左右,开钛靶、锆靶,镀4分钟左右.(产生 TiZrN化合物)

10.镀透明七彩色(AB 彩)∶用钛靶材,充 O2(氧气)至6.5~7.5×10-1Pa镀4分钟左右,加热炉户温 150°C.(产生 TiO2、Ti2O3TiO、等氧化物)

11.镀酒红色∶用铁靶材,充O2(氧气)至7.5~9.5×10-1Pa镀4~6分钟,加热炉温150°℃左右,弧焊机电流在150A左右(产生 Fe2O3氧化物).

12.镀琥珀色∶用铁靶材,充O2(氧气)至7.5~9.5×10-1Pa镀1.5~2.5分钟,加热炉温150℃左右,弧焊机电流在 150A左右.(产生 Fe2O3氧化物)

13.镀宝石蓝色,用钛靶材,充 Ar(氩气)至 1.0×10-1Pa镀 60秒后关氯气,开氮气800-900流量,同时开氧气1000-1130流量(真空控制在2.5~3.5×10-1Pa镀110秒左右).(产生 TiO2、Ti2O3、TiO、等氧化物和 TiN 化合物的混合膜层)

14.镀紫色∶同十三号工艺,充氮气和氧气的镀膜时间控制在 60-70 秒左右,真空在2.5~3.8×10-1Pa左右即可.

15.镀铬黑色∶用钛 Ti和 铬靶材,先充入氩气Ar在 1×10-1Pa镀60秒左右,关钛靶,开铬靶,关小氯气至 80-120流量再通入 CH乙快气至8~9.0×10-1Pa,镀 300秒左右.(产生 CrC黑色膜层)

16.镀枪黑色∶用钛靶材,充入 Ar气在 1.0×10-1Pa镀60秒后,关小氩气至 80-120流量,再通入 CH乙炔气在 8~9×10-1Pa镀 300秒左右.(产生 TiC化合物膜层)。

等等。

PVD镀膜与传统的化学电镀相比有何优点？

离子镀膜其实是离子溅射镀膜，

对于导电靶材，使用直流偏压电源；非导电靶材，使用脉冲偏压电源。

你这个多弧离子镀膜机，可能还需要直流电弧电源或脉冲电弧电源

偏压电源其实就是在阴极和样品所在位置的阳极之间形成偏压电场，一般是阴极加负高压。阴极表面的自由电子在电场作用下定向加速发射，发射电子轰击气体分子，使之电离，并且气体被驱出的电子被电场加速，继续电离其他气体分子，连续不断，形成雪崩效应，气体被击穿，形成恒定的电离电流。此时离子也被加速，轰击靶材，将靶材中的原子驱除出表面，并沉积在样品表面。

电弧电源有点类似日光灯启辉器和镇流器，靠电弧加热电离气体形成等离子体，而不是电子加速撞击。

PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性更好，膜层的性能也更稳定；PVD镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛，可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮；PVD镀膜不会产生有毒或有污染的物质。

PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。

成熟的PVD方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单，容易操作。它的离子蒸发源靠电焊机电源供电即可工作，其引弧的过程也与电焊类似，具体地说，在一定工艺气压下，引弧针与蒸发离子源短暂接触，断开，使气体放电。PVD镀膜不但可以得到厚度3~5μm的TiN涂层，而且其结合力、耐磨性均有不俗表现，甚至用打磨的方法都难以除去，或纯金属薄膜。

PVD镀膜拥有金属外观，均匀的颜色，色彩深沉明亮，膜层多样，表面细腻光滑，富有金属光泽。耐用的表面在各种基本空气和阳光直射环境下保持良好的外观。抗氧化，耐腐蚀，化学性能稳定，抗酸。

附着力可弯曲90度以上，无裂化或剥落(PVD镀膜具有很高的附着力和耐久性)。其它技术，包括电镀、喷涂等比不上。

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