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UV光解净化的工作原理有什么特点
   https://www.fubuwang.com 2024-03-09 21:37:22 来源:网络
核心提示:产品技术原理1、利用特制双波段的高能UV紫外线光束,照射恶臭气体及有机气体(如氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC类,苯、甲苯、二甲苯),紫外线光本身带有的能量,使有机气体或恶臭气体分子内部发生

产品技术原理

1、利用特制双波段的高能UV紫外线光束,照射恶臭气体及有机气体(如氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC类,苯、甲苯、二甲苯),紫外线光本身带有的能量,使有机气体或恶臭气体分子内部发生裂解,化学键断裂,形成游离状态的原子或基团。

2、利用特制双波段的UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧不稳定需与氧分子结合,进而产生臭氧(UV+O2→O-+O*, O*+O2→O3)同时,混合气体中的氧气被紫外线光裂解产生羟基(UV +H2O→H + OH-(羟基) ),臭氧和羟基对有机物具有极强的氧化作用,对恶臭气体及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。

3、恶臭气体利用排风设备输入到本净化设备后,净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应,使恶臭气体物质被降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通过排风管道排出室外。

4、利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键,破坏细菌的核酸(DNA),再通过臭氧进行氧化反应,彻底达到脱臭及杀灭细菌的目的.

产品性能优势:

1、高效除恶臭:能高效去除挥发性有机物(VOC)、无机物、H2S、氨气、硫醇类等主要污染物,以及各种恶臭味,脱臭效率最高可达99%以上,脱臭效果大大超过1993年国家颁布的(GB14554-93)恶臭污染物排放标准。美国环保署公布的九大类114种污染物均被证实可通过光解光催化氧化得到治理

2、无需添加任何物质:只需要设置相应的排风管道和排风动力,使恶臭气体通过本设备进行脱臭分解净化,无需添加任何物质参与化学反应。

3、适应性强:可适应高浓度,大气量,不同恶臭气体物质的脱臭净化处理,可每天24小时连续工作,运行稳定可靠。

4、运行成本低:本设备无任何机械动作,无噪音,无需专人管理和日常维护,只需作定期检查,本设备能耗低,设备风阻极低<100pa,可节约大量排风动力能耗。

5、无需预处理:恶臭气体无需进行特殊的预处理,如加温、加湿等,设备工作环境温度在摄氏-30℃-65℃之间,湿度在30%-70%、PH值在2-13之间均可正常工作。

6、产品性能稳定:目前紫外线灯及专用高功率镇流器技术成熟。每个镇流器设计有不同颜色的电源和工作指示灯,可根据指示灯排查灯管或整流器故障,根据故障情况只需更换灯管或镇流器即可。

UV光解净化技术理论支持

1、我司特制双波段的UV紫外线灯管采用羟基含量小于5PPM(实际上接近于0),杂质含量小于20MMP,纯度在99.999%的石英玻璃,这种材质的石英玻璃制作的紫外线灯比常规市面紫外线灯臭氧产出率高30%左右、紫外线的衰减只有20%。高纯度高臭氧紫外线灯用石英玻璃比普通石英玻璃贵了一倍,并且要定制,由于市场混乱用户不太清楚故出现设备使用初期效果好,后期不达标的原因。

2、利用185nm波长的高能量紫外线来打断分子键

UV高效光解废气净化设备采用特制高能紫外线发射管配大功率电源使用,光子能量为647KJ/mol~704KJ/mol。要裂解切断污染物质分子的分子键,就要使用发出比污染物质分子的结合能强的光子能,因大多数化学物质的分子结合能比170nm和184.9nm波长紫外线的光子能量低,所以UV高效光解净化设备能分解大多数化学物质。

具体需要结合废气成分、浓度、风量大小来配置设备,很多时候不能单独用UV光解设备处理完成,需配套其他净化设备才能达到最佳效果,最好咨询专门从事改设备配置设计的环保公司,深圳市瀚天环保还可以,技术人员有10年行业经验,可完善帮你解答!

uv光解技术特点和高能光氧的区别

光催化技术,就是在光的作用下进行的化学反应。

光化学及光催化氧化法是目前研究较多的一项高级氧化技术。

光催化氧化技术利用光激发氧化将O2、H2O2等氧化剂与光辐射相结合。所用光主要为紫外光,包括uv-H2O2、uv-O2等工艺,可以用于处理污水中CCl4、多氯联苯等难降解物质。

另外,在有紫外光的Fenton体系中,紫外光与铁离子之间存在着协同效应,使H2O2分解产生羟基自由基的速率大大加快,促进有机物的氧化去除。

扩展资料

原理

当能量高于半导体禁带宽度的光子照射半导体时,半导体的价带电子发生带间跃迁,从价带跃迁到导带,从而产生带正电荷的光致空穴和带负电荷的光生电子。光致空穴的强氧化能力和光生电子的还原能力导致半导体光催化剂引发一系列光催化反应的发生。

半导体光催化氧化的羟基自由基反应机理,得到大多数学者的认同。

发展史

1972 年,Fujishima和 Honda在n—型半导体TiO2电极上发现了光催化裂解水反应,在Nature上发表了“Electrochemical photolysis of water at a semiconductor electrode”,揭开了多相光催化新时代的序幕。

进入了90 年代,随着纳米技术的兴起和光催化技术在环境保护、卫生保健、有机合成等方面应用研究的发展迅速,纳米量级的光催化剂的研究,已经成为国际上最活跃的研究领域之一。

参考资料:

百度百科-光催化氧化技术

貌似是一种技术原理,只是说法不一样。uv光氧催化废气处理设备利用特定波长的高能紫外线光束迅速分解空气中的氧分子和水分子,使得有机气体彻底分解为CO2和H2O,同时紫外光具有的强大的能量对挥发性有机气体进行协同分解氧化反应.将大分子有机气体链结构断裂.使有机气体物质转化为低分子化合物或者完全氧化,生成H2O和CO2。

正蓝环保技术资料

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